郑州科烁仪器设备有限公司

       

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co.,Ltd.

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等离子镀膜仪

 

产品简介

等离子镀膜仪是一款基于等离子体激发工艺的真空 PVD 薄膜沉积设备,通过电离工艺气体形成稳定等离子场,借助离子轰击、溅射、反应沉积等方式在工件表面制备均匀致密薄膜。设备集成真空腔体、等离子激发源、气路控制系统、旋转基底台与智能电控模块,支持等离子清洗、等离子增强沉积、反应等离子镀膜一体化工艺。

本机可搭配直流、射频等离子电源,适配金属、合金、氧化物、氮化物、类金刚石 DLC 等多种薄膜制备,兼顾样品前处理清洗与功能性镀膜两道工序。台式小型机型适配高校材料实验室、微纳科研、光学试样制备;立式机型可用于精密五金、光学元器件、传感器、PCB、柔性基底批量镀膜。整机支持腔体尺寸、等离子功率、基底加热、多路反应气体非标定制,提供低应力、高附着力、高均匀性薄膜沉积整套解决方案。

 

产品技术参数:

     

样品台 尺寸 100mm 旋转速度 1~20rpm可调
到靶面距离 20~35mm高度可调 样品加热 可选
等离子溅射靶 数量 2英寸x1 冷却方式 自然冷却
真空腔体 腔体尺寸 φ180mmX210mm 上下盖材质 304不锈钢
观察窗口 全向可视 抽气接口 KF16
腔体材料 高纯石英 进气接口 1/4英寸卡套接头
开启方式 顶盖拆卸式 尺寸可定制
电源配置 数量 直流电源x1 溅射电压 1200V
输出功率 最大150W 最大溅射电流 50mA
真空系统 真空泵类型 双级旋片真空泵 抽气速率 1.1L/s(4m³/h)
抽气接口 KF16 极限真空度 ≥1Pa
排气接口 KF16 真空测量 电阻真空规
其他 供电电源 AC220V,50Hz 整机尺寸 500X320X470mm
整机功率 1.5kW/2kW 整机重量 30kg

产品展示

 

专注  实验室设备

               双室磁控溅射系统

 

本系统为双真空室结构,由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起,在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下,通过进样室送到溅射沉积室,从而避免沉积室的污染

定制化服务

                  匀胶机
不锈钢腔体八英寸匀胶机适用范围:

匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域

科技创新

               磁控溅射镀膜仪

本设备为桌面型磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

等离子镀膜仪采用真空等离子体沉积技术,集成等离子清洗与镀膜功能,可制备金属、介质、DLC 硬质薄膜,适用于科研实验、光学、精密器件镀膜,设备模块化可定制,操作全自动。
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