等离子镀膜仪
产品简介
等离子镀膜仪是一款基于等离子体激发工艺的真空 PVD 薄膜沉积设备,通过电离工艺气体形成稳定等离子场,借助离子轰击、溅射、反应沉积等方式在工件表面制备均匀致密薄膜。设备集成真空腔体、等离子激发源、气路控制系统、旋转基底台与智能电控模块,支持等离子清洗、等离子增强沉积、反应等离子镀膜一体化工艺。
本机可搭配直流、射频等离子电源,适配金属、合金、氧化物、氮化物、类金刚石 DLC 等多种薄膜制备,兼顾样品前处理清洗与功能性镀膜两道工序。台式小型机型适配高校材料实验室、微纳科研、光学试样制备;立式机型可用于精密五金、光学元器件、传感器、PCB、柔性基底批量镀膜。整机支持腔体尺寸、等离子功率、基底加热、多路反应气体非标定制,提供低应力、高附着力、高均匀性薄膜沉积整套解决方案。
产品技术参数:
| 样品台 | 尺寸 | 100mm | 旋转速度 | 1~20rpm可调 |
| 到靶面距离 | 20~35mm高度可调 | 样品加热 | 可选 | |
| 等离子溅射靶 | 数量 | 2英寸x1 | 冷却方式 | 自然冷却 |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | φ180mmX210mm | 上下盖材质 | 304不锈钢 |
| 观察窗口 | 全向可视 | 抽气接口 | KF16 | |
| 腔体材料 | 高纯石英 | 进气接口 | 1/4英寸卡套接头 | |
| 开启方式 | 顶盖拆卸式 | 尺寸可定制 | ||
| 电源配置 | 数量 | 直流电源x1 | 溅射电压 | 1200V |
| 输出功率 | 最大150W | 最大溅射电流 | 50mA | |
| 真空系统 | 真空泵类型 | 双级旋片真空泵 | 抽气速率 | 1.1L/s(4m³/h) |
| 抽气接口 | KF16 | 极限真空度 | ≥1Pa | |
| 排气接口 | KF16 | 真空测量 | 电阻真空规 | |
| 其他 | 供电电源 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 500X320X470mm |
| 整机功率 | 1.5kW/2kW | 整机重量 | 30kg | |
等离子镀膜仪采用真空等离子体沉积技术,集成等离子清洗与镀膜功能,可制备金属、介质、DLC 硬质薄膜,适用于科研实验、光学、精密器件镀膜,设备模块化可定制,操作全自动。
