郑州科烁仪器设备有限公司

       

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co.,Ltd.

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触摸屏匀胶机

核心功能

  • 匀胶工艺精准控制:通过高速旋转(通常可达数千转 / 分钟),将光刻胶、功能涂层等液体材料均匀涂覆在晶圆、基片表面,形成厚度均一、平整度高的薄膜。
  • 触摸屏智能操作:配备高清触控界面,可直观设置转速、时间、加速度等工艺参数,支持工艺配方存储与调用,大幅提升操作效率与重复性。
  • 真空吸附与温控:内置真空吸附系统确保基片在旋转过程中稳定无偏移;部分机型具备温控功能,可精准控制基片温度以适配不同材料的涂覆需求。

应用领域

  • 半导体制造:在晶圆光刻工艺中涂覆光刻胶,为后续曝光、刻蚀步骤奠定基础。
  • 微电子封装:用于芯片封装材料的涂覆,保障封装层的均匀性与可靠性。
  • 光学器件:制备光学薄膜(如滤光片、光学涂层),满足高精度光学性能要求。
  • 科研实验:高校、科研院所用于新材料涂覆工艺开发与性能研究。

 

 

 

 

 

 

旋涂仪

供电电压

AC220V,50Hz/60Hz

操作方式

7寸高清LCD触控屏

转速

0~10000rpm

滴胶方式

手动滴胶,可选购精密注射泵

加速度

100~5000rpm/s

匀胶曲线

每条曲线5段,共可储存5条曲线

转速分辨率

1rpm

抽气接口

φ8mm快拧接口

单步时间

3000s

整机尺寸

290mm×365mm×260mm

基片尺寸

直径≤8英寸(200mm)

整机重量

12kg

腔体材质

PP工程材料

 

排气系统

真空泵

干式机械泵

抽气速率

50L/min

供电电源

AC220V 50/60Hz

产品展示

 

专注  实验室设备

               双室磁控溅射系统

 

本系统为双真空室结构,由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起,在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下,通过进样室送到溅射沉积室,从而避免沉积室的污染

定制化服务

                  匀胶机
不锈钢腔体八英寸匀胶机适用范围:

匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域

科技创新

               磁控溅射镀膜仪

本设备为桌面型磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

匀胶机是半导体、微电子、光学等领域制备薄膜的关键设备,触摸屏匀胶机凭借智能化操作界面与精准工艺控制,成为实验室和产线的优选。
触摸屏匀胶机.PTFE.110