郑州科烁仪器设备有限公司

       

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co.,Ltd.

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等离子清洗机 300W

简单介绍:


等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。

 

详情介绍:

等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵,在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走;因此短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。

等离子清洗机(plasma cleaner),是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。

本款小型等离子清洗机除了具有清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,在清洗过程中,小型等离子清洗机的辉光放电可以加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。

这款等离子清洗机适合于实验室和小型生产。采用13.56Mhz的射频电源,能够用来匹配各种常用气体的等离子体。射频电源的功率从100W到1000W之间有多种常用规格可供选配,能够满足用户的多样化需求。

 

技术参数:

 

主要部件 指标名称 参数指标
清洗仓体 清洗仓材质 304不锈钢
清洗仓尺寸 295*350*340
射频电源 电源特性 该电源为全固态射频电源,采用高稳定高可靠的功放模块和直流模块,有效保障了电源的射频功率输出。采用高质量的电子元器件,使产品的可靠性得以保证。
电源优势 可长时间正常运行
操作简单灵活
 电源效率高、发热少
具有完善的反射功率保护功能
射频功率 0~300W连续可调
信号频率 13.56MHz ±0.005%
反射功率 ≤200W
功率稳定度 ±0.1%
射频接头 N型头
整机效率 ≥75%
谐波分量 ≤-50 dBc
冷却方式 强制风冷
气体测量 测量部件 浮子流量计
气体通道 两通道
A通道量程 10~100ml
B通道量程 16~160ml
真空获取 真空测量 数字真空计(电阻规)
真空抽取 双极旋片泵
电机转速 50Hz时为:1440;60Hz时为:1720
抽气速率 50Hz时为:1.1L/s;60Hz时为:1.3L/s
真空量程 1Pa~100000Pa
极限真空 1Pa
电机噪音 ≤56dB
管道接口 进气口:KF16;排气口KF16.
连接管道 KF16真空波纹管
真空阀门 电磁阀 
电机功率 400W
其它 供电电源 AC220V 50/60Hz
整机功率 550W/600W
使用温度 -10℃ - 40℃
工作真空 ≤40Pa
整机尺寸 700mm×750mm×650mm
整机重量 125kg

产品展示

 

专注  实验室设备

               双室磁控溅射系统

 

本系统为双真空室结构,由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起,在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下,通过进样室送到溅射沉积室,从而避免沉积室的污染

定制化服务

                  匀胶机
不锈钢腔体八英寸匀胶机适用范围:

匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域

科技创新

               磁控溅射镀膜仪

本设备为桌面型磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

简单介绍:
等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
等离子清洗机作为一种干法清洗设备