郑州科烁仪器设备有限公司

       

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co.,Ltd.

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电子束蒸发镀膜仪

简单介绍:

 

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。

 

技术参数:

 

产品名称 电子束蒸发镀膜仪
样品台 外形尺寸 <150mm,样品台可旋转
可调温度 ≦500℃
电子枪 新型电子枪,6孔坩埚
加热灯 4只卤素加热灯用于除气,1个氖灯用于照明
真空腔体 腔体尺寸 Φ500*H500mm
观察窗口 直径φ100mm
腔体材质 304不锈钢
开启方式 前开门式
膜厚测量 采用SQM160膜厚仪进行监控,涂层厚度不均匀度小于6%。
真空系统 前级泵 双极旋片泵,气体抽速1.1L/S
次级泵 涡轮分子泵,气体抽速600L/S
真空测量 复合真空计(电离规+电阻规)
系统真空 5×10-5Pa
水冷系统 水压<2.5bar 水压监测
加热灯 4只卤素加热灯用于除气,1个氖灯用于照明
电极接口 带2路金属蒸发电极接口
控制系统 CYKY自研专业级控制器
其他参数 供电电源 AC380V,50Hz
整机尺寸 1000mm×800mm×1500mm
整机功率 20KW
整机重量 350kg

 

产品展示

 

专注  实验室设备

               双室磁控溅射系统

 

本系统为双真空室结构,由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起,在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下,通过进样室送到溅射沉积室,从而避免沉积室的污染

定制化服务

                  匀胶机
不锈钢腔体八英寸匀胶机适用范围:

匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域

科技创新

               磁控溅射镀膜仪

本设备为桌面型磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。
电子束蒸发镀膜仪