郑州科烁仪器设备有限公司

       

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co.,Ltd.

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滑动式快冷管式炉

产品简介:滑动快冷管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

 

技术参数:

品名称 滑动式快冷管式炉
产品型号 KS-TB
炉膛尺寸 40mm×300mm ~120mm宽*300mm (炉管直径*加热区域 长度)
温度 1200℃
工作温度 1100℃
加热速度 0-20℃ (建议 10℃/min)
控温 50个可编程及PID自动控制
开盖方式 侧开盖
加热元件 电阻丝
热电偶 K型
超温报警 具备超温报警功能,有效预防过热风险,确保设备安全运行
炉壳结构 双层风冷结构;表面温度低于50℃
控温精度 ± 1℃
真空度 最大真空度-0.1Mpa,可配置分子泵组,真空度可达7*10-4Pa
保护气氛 可通入保护气氛
电压 AC220V/380,50/60Hz

产品展示

 

专注  实验室设备

               双室磁控溅射系统

 

本系统为双真空室结构,由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起,在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下,通过进样室送到溅射沉积室,从而避免沉积室的污染

定制化服务

                  匀胶机
不锈钢腔体八英寸匀胶机适用范围:

匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域

科技创新

               磁控溅射镀膜仪

本设备为桌面型磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

产品简介:滑动快冷管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
滑动式2